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真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬），屬于物理 氣相沉積工藝，因?yàn)殄儗映殇X、錫、銦等金屬的薄膜，故也稱(chēng)為真空金屬化。

真空鍍膜的功能主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其在車(chē)燈罩方面有很重要的聚光效果，其次是賦予鍍膜層出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜根據(jù)鍍膜氣相金屬產(chǎn)生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)，更具有技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

真空鍍膜材料以金屬和金屬氧化物為主。金屬型鍍膜材料有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等；合金型鍍膜材料有鎳-鉻、鎳-鐵、鐵-鈷、金-銀-金等；金屬化合物有二氧化硅、二氧化鈦、二氧化錫等。其中，尤以鋁應(yīng)用最多最普遍。這主要因?yàn)殇X蒸發(fā)溫度低、易操作、鋁鍍層對(duì)塑料附著力好、對(duì)紫外線(xiàn)和氣體阻隔性強(qiáng)、價(jià)格低廉。